一种CVD工作台旋转装置及CVD装置
基本信息
| 申请号 | CN202210382788.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114686859A | 公开（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申请公布号 | CN114686859A | 申请公布日 | 2022-07-01 |
| 分类号 | C23C16/458（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 孙利;朱佰喜;薛抗美;蒋彪;杨伟峰 | 申请（专利权）人 | 广州志橙半导体有限公司 |
| 代理机构 | 北京中和立达知识产权代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 510700广东省广州市黄埔区（中新广州知识城）亿创街1号406房之337（仅限办公） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种CVD工作台旋转装置及CVD装置，CVD工作台旋转装置包括：旋转工作台，所述旋转工作台包括：主动旋转工作台和从动旋转工作台，所述主动旋转工作台和从动旋转工作台外侧均镶嵌齿套，主动旋转工作台的齿套和从动旋转工作台的齿套啮合；所述主动旋转工作台通过主传动轴转动连接在炉体内，所述主动传动轴与驱动机构连接。用来解决制件相对于气场固定不动的情况，放置在旋转工作台上的工装治具架在旋转过程中充当了扇叶的作用搅动了腔室内的原有气场，使其能更好的在腔体内行成一个相对稳定扩散的气场，制件在气场内保持一定的速度旋转与反应气体充分接触，从而使反应气体得以有足够的使用效率。 |
