一种陶瓷釉料加工装置及加工方法
基本信息
| 申请号 | CN202111476902.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114130527A | 公开（公告）日 | 2022-03-04 |
| 申请公布号 | CN114130527A | 申请公布日 | 2022-03-04 |
| 分类号 | B03C1/18（2006.01）I;B03C1/26（2006.01）I | 分类 | 用液体或用风力摇床或风力跳汰机分离固体物料；从固体物料或流体中分离固体物料的磁或静电分离；高压电场分离〔5〕; |
| 发明人 | 邹建华;汪大谷;彭宏;张亮 | 申请（专利权）人 | 湖南华联瓷业股份有限公司 |
| 代理机构 | 湖南正则奇美专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张继纲 |
| 地址 | 412000湖南省株洲市醴陵市西山办事处万宜路3号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种陶瓷釉料加工装置及加工方法，涉及釉料加工技术领域，包括倾斜设置的基箱，所述基箱的内部安装有与基箱平行设置的输送机构，所述基箱高度较低的一端固定连接有进料箱，且基箱高度较高的一端固定连接有出料箱，所述输送机构的两端分别延伸至进料箱的下侧和出料箱的内部，所述基箱的上侧安装有平行设置的移动机构，所述移动机构的输出端安装有若干个将釉料原料铺平的原料扰动结构。本发明通过原料扰动结构，可以将输送机构上的釉料原料展开，进而可以增大釉料原料与原料扰动结构中磁吸筛板的接触面积，进而可以提高去除磁性成分的效率和质量。 |
