一种使用预处理粉料制备碳化硅晶体的生长方法

基本信息

申请号 CN202110216497.0 申请日 -
公开(公告)号 CN113026105B 公开(公告)日 2022-07-05
申请公布号 CN113026105B 申请公布日 2022-07-05
分类号 C30B29/36(2006.01)I;C30B23/00(2006.01)I;C30B28/12(2006.01)I 分类 晶体生长〔3〕;
发明人 不公告发明人 申请(专利权)人 哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司
代理机构 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙) 代理人 -
地址 150000黑龙江省哈尔滨市南岗区哈西大街与学府四道街交汇处第40栋-1-2层12号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种使用预处理粉料制备碳化硅晶体的生长方法,属于碳化硅晶体制备技术领域。为解决现有碳化硅粉料容易使碳化硅晶体产生缺陷的问题,本发明提供了一种使用预处理粉料制备碳化硅晶体的生长方法,先用氢氟酸浸泡碳化硅粉料,再将粉料加入100℃去离子水中加热得到氢钝化的碳化硅粉料;将氢钝化的碳化硅粉料与保护溶剂充分混合,然后旋蒸蒸发保护溶剂至混合物呈粉状,得到预处理粉料;最后采用PVT法以所得预处理粉料为原料制备碳化硅晶体。采用氢钝化与有机溶剂包裹保护相结合的预处理方式能够长期维持粉料表面的低氧杂质含量状态,提高碳化硅晶体的良品率。本发明制备方法简单、试剂价格低廉且安全,具有良好的实用价值。