一种硬掩膜单体和组合物及图案形成方法
基本信息
| 申请号 | CN201910387089.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110041286B | 公开（公告）日 | 2021-03-19 |
| 申请公布号 | CN110041286B | 申请公布日 | 2021-03-19 |
| 分类号 | C07D265/16(2006.01)I;G03F1/76(2012.01)I;C07D265/12(2006.01)I | 分类 | 有机化学〔2〕; |
| 发明人 | 王静;肖楠 | 申请（专利权）人 | 福建泓光半导体材料有限公司 |
| 代理机构 | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赖秀华 |
| 地址 | 363005福建省漳州市高新区九湖镇林前村林前773号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于光刻领域，公开了一种硬掩膜单体和组合物及图案形成方法。所述硬掩膜组合物含有式(1)所示的硬掩膜单体、聚合物以及溶剂，式(1)中，Ar1和Ar2各自独立地表示碳原子数为6‑30的芳基，m为1‑4的整数。本发明提供的硬掩膜组合物兼具有优异的耐刻蚀性能、间隙填充特征和平坦化特征。 |
