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一种双层水冷真空炉体

基本信息

申请号 CN202021221092.3 申请日 -
公开（公告）号 CN212645376U 公开（公告）日 2021-03-02
申请公布号 CN212645376U 申请公布日 2021-03-02
分类号 F27D1/00(2006.01)I;F27D1/12(2006.01)I 分类 炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉〔4〕;
发明人 孟进 申请（专利权）人 上海畅桥真空系统制造有限公司
代理机构 北京沁优知识产权代理有限公司 代理人 方仕杰
地址 200000上海市金山区山富东路365号4幢
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型提供了一种双层水冷真空炉体，属于真空炉技术领域。该双层水冷真空炉体包括外壳组件、炉膛组件、调节组件和压紧组件。第一卡块插入安装槽内，达到定位炉膛本体的目的，定位后，第二丝杆部带动压紧板压紧炉膛本体，通过第二卡块插入定位槽内，第一卡块插入安装槽内，限制炉膛本体沿外壳径向的位移，通过限位块插入卡槽内，限制炉膛本体沿外壳轴向的位移，进而达到固定炉膛本体的目的，压板件压紧炉膛本体两侧，进一步固定炉膛本体，按相反的顺序，能够拆卸炉膛本体，安装过程便于定位炉膛本体，拆卸时，无零件需要完全拆除，减少零件的遗失，安装和拆卸过程简单，有效的改善现有的炉膛不便于拆卸和安装的问题。