一种基于物理气相沉积的涂层设备
基本信息
| 申请号 | CN202021220672.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212741515U | 公开（公告）日 | 2021-03-19 |
| 申请公布号 | CN212741515U | 申请公布日 | 2021-03-19 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 孟进 | 申请（专利权）人 | 上海畅桥真空系统制造有限公司 |
| 代理机构 | 北京沁优知识产权代理有限公司 | 代理人 | 方仕杰 |
| 地址 | 200000上海市金山区山富东路365号4幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种基于物理气相沉积的涂层设备，属于物理气相沉积技术领域。该基于物理气相沉积的涂层设备包括真空镀膜腔、发射源、承载架和翻料组件。所述发射源设置于所述真空镀膜腔内部顶端，所述真空镀膜腔内部安装有电动滑台，所述承载架设置于所述发射源下方，且一侧与所述电动滑台的移动端固定连接，所述翻料组件包括夹具和驱动电机，所述夹具转动安装于所述承载架表面。本实用新型通过驱动电机驱动待镀膜工件转动，提高待镀膜工件的镀膜范围，可使工件表面的镀膜更加均匀，可提高镀膜效果，此外，通过电动滑台，可调节待镀膜工件的位置，可提高待镀膜工件镀膜的稳定性，进而提高镀膜效果。 |
