一种用于真空蒸馏的钨坩埚
基本信息
申请号 | CN202023235056.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN214300319U | 公开(公告)日 | 2021-09-28 |
申请公布号 | CN214300319U | 申请公布日 | 2021-09-28 |
分类号 | C23C14/24(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 黄广华;吴建国;刘伟 | 申请(专利权)人 | 株洲硬质合金集团有限公司 |
代理机构 | 湖南正则奇美专利代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 张继纲;肖琦 |
地址 | 412000湖南省株洲市荷塘区钻石路288号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种用于真空蒸馏的钨坩埚,包括钨坩埚本体,钨坩埚本体为纯钨制成的桶形结构,钨坩埚本体上部外表面同心设置有环形凸台,且环形凸台与钨坩埚本体上缘有一定高度,环形凸台上沿轴向方向设置有螺纹孔,环形凸台与钨坩埚本体是一体成型的,环形凸台上的螺纹孔在两个以上,且螺纹孔等距设置在环形凸台上,环形凸台上端离钨坩埚本体上缘的距离为2~6mm,螺纹孔的孔径为M5~M8,钨坩埚本体外径为155~200mm,高度为240~280mm;环形凸台外径为170~198mm,高度为8~10mm,钨坩埚本体重量为30~55kg,本实用新型解决了现有钨坩埚不便于使用吊装的方式,从而无法提高单炉产量的弊端。 |