激光光刻机
基本信息
| 申请号 | CN201110115575.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102759863B | 公开（公告）日 | 2015-12-02 |
| 申请公布号 | CN102759863B | 申请公布日 | 2015-12-02 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B26/10(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 陈猷仁;林坤荣 | 申请（专利权）人 | 瑞世达科技（厦门）有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 361009 福建省厦门市火炬高新区信息光电园坂尚路199号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种膜层蚀刻方法及其激光光刻机，尤其是应用于大尺寸触控面板采用激光蚀刻的表面保护层处理方法。本发明的膜层蚀刻方法包括以下步骤：在基板上形成一膜层；采用激光光束对所述膜层的预定区域进行烧蚀，形成图案化膜层。本发明的激光光刻机，包括激光器、聚焦透镜组、控制器、驱动电机和定位平台，所述激光器发出激光光束，该激光光束经过所述聚焦透镜组投射于所述定位平台上的工件表面。本发明是采用激光直接蚀刻于膜层表面形成所需图案的方法，可应用于大尺寸触控面板的加工，无需光罩，实现采用快速单步图案化制程取代网版印刷制程或者是多步有光罩的光刻制程，降低生产成本。 |
