一种掩膜版清洗装置及其清洗方法
基本信息
| 申请号 | CN202110604114.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113351583A | 公开（公告）日 | 2021-09-07 |
| 申请公布号 | CN113351583A | 申请公布日 | 2021-09-07 |
| 分类号 | B08B7/04;B08B7/00;B08B7/02;B08B3/02;B08B3/04;B08B3/08;B08B13/00;F26B21/00;H01L51/56 | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 钱超;杨波 | 申请（专利权）人 | 江苏高光半导体材料有限公司 |
| 代理机构 | 南京行高知识产权代理有限公司 | 代理人 | 肖念 |
| 地址 | 212400 江苏省镇江市句容经济开发区容宁创业园2# | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种掩膜版清洗装置，包括挂载架，挂载架内设有离心组件，挂载架的外侧套设有清洗组件，挂载架的两端安装有抵板，离心组件包括旋转轴，旋转轴的两端分别与两个抵板转动连接，其中一个抵板上安装有驱动电机，驱动电机与旋转轴驱动连接，旋转轴上设有移动块，移动块上安装有卡合机构，通过设置的离心组件和环筒的配合，以达到利用旋转来促使掩膜版均匀多角度的受到水流的冲洗效果，并能实现自动化自清洗效果，降低人力成本，本发明通过设置的环筒内的多个区间，以达到利用层层递进的方式来进行对掩膜版的清洗，从而使得其上附着的杂质可以更好的脱离其表面，在清洗完毕后进行超声震荡烘干处理，防止水渍未干导致重新附着新的杂质。 |
