一种掩膜版倾斜钻孔支架

基本信息

申请号 CN202011541259.9 申请日 -
公开(公告)号 CN112571097B 公开(公告)日 2022-02-22
申请公布号 CN112571097B 申请公布日 2022-02-22
分类号 B23Q3/00(2006.01)I;B23B41/00(2006.01)I;B23Q11/00(2006.01)I 分类 机床;不包含在其他类目中的金属加工;
发明人 钱超;杨波 申请(专利权)人 江苏高光半导体材料有限公司
代理机构 南京行高知识产权代理有限公司 代理人 肖念
地址 212400江苏省镇江市句容经济开发区容宁创业园2#
法律状态 -

摘要

摘要 本发明属于掩膜版技术领域,尤其是涉及一种掩膜版倾斜钻孔支架,包括底板和多根立柱及多根斜柱,立柱与斜柱一一匹配,多根立柱与底板垂直固定连接,多根斜柱的两端分别与底板和立柱固定连接,斜柱的倾斜角度为度,多根斜柱上设有同一个卡紧机构,底板上还设有用于配合卡紧机构的吸附机构,底板上开设有多个上下贯通的螺纹孔。优点在于:本发明可较为稳定的在掩膜版上开钻出多个45度角的钻孔,同时结构稳定,掩膜版在钻孔时不易发生移动,提高了掩膜版的钻孔的效果和质量。