一种均匀镀膜的装置以及方法
基本信息
| 申请号 | CN201910361919.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111850477A | 公开（公告）日 | 2020-10-30 |
| 申请公布号 | CN111850477A | 申请公布日 | 2020-10-30 |
| 分类号 | C23C14/24;C23C14/54 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王正安 | 申请（专利权）人 | 上海祖强能源有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518066 广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室(入驻深圳市前海商务秘书有限公司) | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种均匀镀膜的装置以及方法，该装置包括：点蒸发源阵列、加热组件、膜层监控机构和加热控制机构；点蒸发源阵列包括多个均匀排布的点蒸发源，在每个点蒸发源的外部设置加热组件；膜层监控机构包括：厚度测量器，用于监测基板的膜层厚度，成分分析器，用于监测基板的膜层成分，以及与厚度测量器和成分分析器连接的控制器，用于根据膜层厚度和膜层成分得到各个点蒸发源的蒸发量；加热控制机构与控制器和加热组件连接，用于根据蒸发量，控制加热组件对每个点蒸发源的加热输出功率。本发明通过设置多个均匀排布的点蒸发源，能够实现大面积的均匀镀膜，并通过实时监测数据，精确控制蒸发材料的蒸发量，提高了蒸发材料的有效利用率。 |
