高精度多台阶微透镜阵列的制作方法
基本信息
| 申请号 | CN201410519408.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104237984B | 公开（公告）日 | 2016-11-16 |
| 申请公布号 | CN104237984B | 申请公布日 | 2016-11-16 |
| 分类号 | G02B3/00(2006.01)I;G02B27/44(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 侯治锦;司俊杰;陈洪许;吕衍秋;王巍;韩德宽 | 申请（专利权）人 | 中航凯迈（上海）红外科技有限公司 |
| 代理机构 | 郑州睿信知识产权代理有限公司 | 代理人 | 中国空空导弹研究院 |
| 地址 | 201306 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区天骄路336号1幢A206室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种高精度多台阶微透镜阵列的制作方法,该方法首先在基底上等间隔制作出初始深度的台阶；然后再在各初始深度的台阶上、以及各台阶之间的间隔上，进行刻蚀，形成设定深度的台阶，本方法不但对操作者和操作设备的制作精度要求相对较低，成品率较高，而且可以省去大量的刻蚀时间，具有较大的经济效益。 |
