一种多台阶微透镜制作方法以及光学元件台阶制作方法
基本信息
| 申请号 | CN201410321487.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104330840B | 公开（公告）日 | 2016-05-04 |
| 申请公布号 | CN104330840B | 申请公布日 | 2016-05-04 |
| 分类号 | G02B3/00(2006.01)I;G02B27/44(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 侯治锦;司俊杰;韩德宽;陈洪许;吕衍秋;丁嘉欣;张向锋;姚官生;王理文;杨雪峰;耿东锋 | 申请（专利权）人 | 中航凯迈（上海）红外科技有限公司 |
| 代理机构 | 郑州睿信知识产权代理有限公司 | 代理人 | 胡泳棋 |
| 地址 | 201306 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区天骄路336号1幢A206室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种多台阶微透镜制作方法以及光学元件台阶制作方法，该方法通过仅有的一次掩膜光刻形成微透镜最内层环带，然后通过负性光刻胶背面曝光显影用作掩膜层，再经腐蚀、背面曝光显影，刻蚀形成基底的图形，然后进行循环得到按次序从内到外逐次得到环带图形；还提出了一种制作光学元件台阶的制作方法。从根本上避免了传统套刻方法制作微透镜制作因掩模版对准、光刻、刻蚀等工序中带来的不可避免的误差，减少了制作过程中的工艺步骤，降低了难度，满足了微透镜制作过程中高精度要求，有效的保证和提高了微透镜衍射效益等光学性能。 |
