一种适用复杂和易损结构的二氧化锡薄膜的空心阴极离子镀方法
基本信息
| 申请号 | CN202110524231.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113265624A | 公开（公告）日 | 2021-08-17 |
| 申请公布号 | CN113265624A | 申请公布日 | 2021-08-17 |
| 分类号 | C23C14/32（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 项天星;刘胜康;彭勇 | 申请（专利权）人 | 中山艾尚智同信息科技有限公司 |
| 代理机构 | 中山市粤捷信知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张谦 |
| 地址 | 528437广东省中山市火炬开发区祥兴路6号数贸大厦北冀1层102卡 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种适用复杂和易损结构的二氧化锡薄膜的空心阴极离子镀方法，该方法以固体二氧化锡颗粒作为原料，利用等离子体发生器发出的氩气流经过磁场偏转打二氧化锡颗粒表面，使其升华并沉积到基底上。本发明方案无需任何溶剂或者掺杂材料，就可以在硅片或玻璃衬底沉积平整致密、透光优异的二氧化锡薄膜，在可见光区域内的平均透过率接近90%。本方法制备工艺简单、时间短，能够实现大面积规模化制备，在光电探测器、太阳能电池等领域都有良好的应用前景。 |
