一种真空室结构
基本信息
| 申请号 | CN202021562605.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213417070U | 公开（公告）日 | 2021-06-11 |
| 申请公布号 | CN213417070U | 申请公布日 | 2021-06-11 |
| 分类号 | C30B29/04（2006.01）I;C30B25/00（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 侯荣华;彭俊杰;王红雪;刘敏强;宁树兴;柴喜红 | 申请（专利权）人 | 北京清碳科技有限公司 |
| 代理机构 | 六安众信知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 鲁晓瑞 |
| 地址 | 101300北京市顺义区林河经济开发区林河大街22号院26号楼5层501室（科技创新功能区） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空室结构，包括真空室壁、安装板以及水冷外壁，所述真空室壁套设在所述水冷外壁内部，所述安装板设置在所述水冷外壁下部且所述安装板套设在所述真空室壁外壁并将所述真空室壁分为上下两部分，所述真空室壁上部分与水冷外壁形成水套夹层，所述水套夹层用于填充循环冷却水。本实用新型提供了一种新型的真空室结构，以解决现有的真空室结构无法应用于单晶金刚石生长，且操作不便的技术问题。 |
