锂靶材组件的制造方法
基本信息
| 申请号 | CN201910015776.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111411330B | 公开（公告）日 | 2022-02-22 |
| 申请公布号 | CN111411330B | 申请公布日 | 2022-02-22 |
| 分类号 | C23C14/34（2006.01）I;C23C14/18（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 齐大志;刘慧芳;程滋平;陈强;牟瀚波;杨诚;吴春敢 | 申请（专利权）人 | 天津中能锂业有限公司 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 贺卫国 |
| 地址 | 300457天津市滨海新区经济技术开发区西区新业九街100号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种锂靶材组件的制造方法，包括：提供锂靶坯，所述锂靶坯具有第一主表面和与第一主表面相反的第一背面；提供背板，所述背板具有第二主表面和与第二主表面相反的第二背面；对所述背板的第二主表面进行镀锂处理，形成镀锂层；将所述锂靶坯的第一主表面与所述背板的第二主表面上的镀锂层相对设置并贴合，形成初始组件；在真空环境中，向所述初始组件施加压力，使所述锂靶坯与所述镀锂层结合，完成锂靶坯与背板的绑定，从而形成锂靶材组件。本发明技术方案降低了锂靶坯与背板的绑定难度，提高了锂靶材组件生产制造的效率。 |
