自动净化HVPE取片舱环境系统
基本信息
| 申请号 | CN202021897595.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213327929U | 公开（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申请公布号 | CN213327929U | 申请公布日 | 2021-06-01 |
| 分类号 | C30B25/08（2006.01）I;C30B25/14（2006.01）I;C30B29/40（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 李枝旺;王亮 | 申请（专利权）人 | 镓特半导体科技（铜陵）有限公司 |
| 代理机构 | 铜陵市嘉同知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 程玉霞 |
| 地址 | 244000安徽省铜陵市经济技术开发区天门山北道3139号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了自动净化HVPE取片舱环境系统，它包括：反应腔（1）；取片舱（2）；所述取片舱安装于反应腔底部；闸阀（3），所述闸阀安装于反应腔底部和取片舱顶部之间；排气控制系统，所述排气控制系统分别与反应腔和取片舱连通。本实用新型的有益效果是本实用新型的有益效果是设计了一种含反应腔、闸阀、气动阀、泵、排气控制系统的装置，最大限度解决上、下片污染腔体环境而导致每次上、下片生长前几炉生长质量相对差等问题。 |
