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用于氢化物气相外延的均匀生长反应器

基本信息

申请号	CN202022170723.X	申请日	-
公开（公告）号	CN213327930U	公开（公告）日	2021-06-01
申请公布号	CN213327930U	申请公布日	2021-06-01
分类号	C30B25/14（2006.01）I	分类	晶体生长〔3〕;
发明人	王宏亮;姚惟梁	申请（专利权）人	镓特半导体科技（铜陵）有限公司
代理机构	铜陵市嘉同知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	吴晨亮
地址	244000安徽省铜陵市经济技术开发区天门山北道3139号
法律状态	-

摘要

本实用新型公开了用于氢化物气相外延的均匀生长反应器，它包括：石英腔（1）；所述石英腔内设有均气环（2），所述均气环的环面上均布有若干通孔（3），所述石英腔的底部开设有两个排气口，所述两个排气口上连通有Y型排气管（4）的两个分管，所述Y型排气管的主管与外界连通。本实用新型的有益效果是石英腔中加装集气环，改善制程气体分布的均匀性；将HVPE的底座单排气口改成对称的双排气口。单尾气管路改成Y型双尾气管路，增大尾气管路的直径，同时双边排气，降低因单边排气造成管路堵塞而触发尾气压力偏高的报警；改善制程气体的均匀性，控制制程气体的流体方向，便于控制晶圆的翘曲度，明显提升晶圆的质量，降低后道减薄工艺的难度。