一种真空镀膜机膜厚均匀性精密调整装置
基本信息
| 申请号 | CN201922486474.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211848127U | 公开（公告）日 | 2020-11-03 |
| 申请公布号 | CN211848127U | 申请公布日 | 2020-11-03 |
| 分类号 | C23C14/54(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 苏雄宇;陈宪纬;刘振波 | 申请（专利权）人 | 深圳海容高新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 荆门市森皓专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 深圳海容高新材料科技有限公司 |
| 地址 | 518000广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区高新南七道20号深圳国家工程实验室大楼B903 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于真空镀膜机技术领域，尤其为一种真空镀膜机膜厚均匀性精密调整装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有支撑座，所述支撑座的顶部连接有固定板，所述固定板的底部通过螺钉连接有磁控溅射靶片，所述支撑座的顶部通过螺钉固定连接有第一Z字板。通过在磁控溅射靶片与基片之间设计支撑座，支撑座安装的限位调节机构将磁控溅射镀膜的均匀性差别缩小，使用手轮配合丝杆对基片的镀膜位置进行调整，基片镀膜位置的变化抵消电场对电子运动轨迹造成的偏移，通过此装置的机械方法调整，调整的同时没有改变镀膜工艺的气体、电压、电流等因素，稳定可靠，并能做到很高的精度，加工简便，成本低，适合推广使用。 |
