一种PECVD设备的折叠缩放电极
基本信息
申请号 | CN201821052533.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN208378999U | 公开(公告)日 | 2019-01-15 |
申请公布号 | CN208378999U | 申请公布日 | 2019-01-15 |
分类号 | C23C16/509 | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 刘振波;霍锦辉;张向阳 | 申请(专利权)人 | 深圳海容高新材料科技有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 518000 广东省深圳市龙华区大浪街道同胜社区工业园路1号1栋凯豪达大厦十四层1410 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种PECVD设备的折叠缩放电极,PECVD设备具有一矩形的镀膜空腔,包括多个可活动抽取的电极模组,每个电极模组包括负极固定板以及固定连接在负极固定板下方的正极固定板,所述负极固定板上表面安装有多个呈上下叠层设置且可以拉伸展开的负电极板组,负电极板组的一端通过第一固定边条与负极固定板相固定,负电极板组的另一端通过第一活动边条可滑动的连接到负极固定板上,所述正极固定板下表面安装有多个呈上下叠层设置且可以拉伸展开的正电极板组,正电极板组的一端通过第二固定条与正极固定板相固定,正电极板组的另一端通过第二活动边条可滑动的连接到正极固定板上,本电极板的面积可以根据需要进行灵活调节,满足了不同大小工件的多样化加工需求,较大程度的利用了镀膜空间,大大节省了纳米材料。 |
