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一种用于溅射设备真空室壁的内衬膜及制备方法

基本信息

申请号 CN201811638327.6 申请日 -
公开（公告）号 CN109719021A 公开（公告）日 2019-05-07
申请公布号 CN109719021A 申请公布日 2019-05-07
分类号 B05D7/24（2006.01）I; B05D7/02（2006.01）I; B05D7/00（2006.01）I; C23C14/34（2006.01）I 分类 一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕;
发明人 周利红; 黄平建 申请（专利权）人 宁波高新区敦和科技有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 315040 浙江省宁波市高新区江南路1558号8楼8086-16室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供了一种用于溅射设备真空室壁的内衬膜及制备方法，所述内衬膜由基底层、离型层、胶粘层、薄膜层组成，所述胶粘层和所述薄膜层由可降解高分子材料组成。本发明制备的内衬膜用于保护溅射设备的真空室壁，使之免于在进行溅射工艺时被污染，使得所得真空室易于清洁，有效延长了溅射设备真空室的使用寿命，由于所用的制备材料由于主要是可降解高分子材料，所以能更为快捷再回收利用靶材材料，且不带入杂质，从而提高溅射靶材的利用率。