一种密集型光波复用滤光片

基本信息

申请号 CN202011023350.1 申请日 -
公开(公告)号 CN112099124A 公开(公告)日 2020-12-18
申请公布号 CN112099124A 申请公布日 2020-12-18
分类号 G02B5/28;G02B1/14;G02B1/115;G02B6/293 分类 光学;
发明人 陈信源;何伟峰;温勇健 申请(专利权)人 广州市佳禾光电科技有限公司
代理机构 广州嘉权专利商标事务所有限公司 代理人 广州市佳禾光电科技有限公司
地址 510535 广东省广州市黄埔区云埔工业区观达路7号C栋三楼
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种密集型光波复用滤光片,包括基体及分别覆设在基体两个相对表面的滤光层、抗放射层,滤光层相对于基体的表面还设有抗刮层,当后续需要进行抛光操作时,能够防止滤光层因摩擦受损,确保滤光片的良率;同时,组成滤光层的一号介质亚层的构成材料采用了氢化硅,使滤光层的总层数得以降至不大于84层,且层厚得以不大于20μm,与现有技术相比,极大地减小了滤光层的厚度,有效抑制了因滤光层过厚造成的光损失、光通路迷和应力累积,实现整体制造成本的降低。