基于双线性滤波图像层次的大卷积核实时近似拟合方法
基本信息
| 申请号 | CN202010169973.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111738902A | 公开（公告）日 | 2020-10-02 |
| 申请公布号 | CN111738902A | 申请公布日 | 2020-10-02 |
| 分类号 | G06T1/20(2006.01)I | 分类 | 计算；推算；计数; |
| 发明人 | 徐添辰;吴恩华 | 申请（专利权）人 | 超威半导体（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 北京君尚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 超威半导体（上海）有限公司;中国科学院软件研究所 |
| 地址 | 201212上海市浦东新区自由贸易试验区环科路669号、荣科路118号1幢2-14层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种基于双线性滤波图像层次的大卷积核实时近似拟合方法，其步骤包括：1)对输入图像以双线性滤波进行向下采样，得到图像金字塔MIP；将MIP从最高层级逐步向上采样，得到卷积计算近似拟合图像；其中，向上采样阶段过程中，通过在像素样本p(L+1)与像素样本pdown(L)之间线性插值生成MIP中第L层经过卷积近似滤波的图像，插值混合参数取决于目标卷积核函数为：p(L)＝(1‑α(L))p(L+1)+α(L)pdown(L)；α(L)表示第L层插值混合参数，p(L)为向上采样阶段第L层输出图像里的像素，p(L+1)为对第L+1层向上采样输出的像素样本，pdown(L)为对第L层向下采样输出的像素样本。 |
