一种相变器件及其制备方法、光激励调制方法、电激励调制方法
基本信息
| 申请号 | CN202110188522.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112820827A | 公开（公告）日 | 2021-05-18 |
| 申请公布号 | CN112820827A | 申请公布日 | 2021-05-18 |
| 分类号 | H01L45/00;H01S3/131 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 不公告发明人 | 申请（专利权）人 | 智汇工场（深圳）科技企业（有限合伙） |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518054 广东省深圳市南山区南山街道登良社区南光路13号中兴工业城8栋厂房1层A17-3 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种相变器件，所述器件由波导层、电极层、硫系化合物层、和覆盖层组成；所述波导层上设置长条状波导；所述电极层覆盖在所述波导层上，按照沿所述波导方向和垂直波导方向设置；所述硫系化合物层覆盖在所述电极层上；所述覆盖层覆盖在所述硫系化合物层上。本发明提供的相变器件制备过程简单，能够满足同时调制光和电的需要，可通过搭建激光调制光路和电调制电路，实现对器件的有效调制，使得器件能够满足同时进行光调制和电调制，打破尺寸上的限制和光响应的衍射限制，将二者融合到一个器件中，充分发挥相变器件优越的光电可调性，为实现全光神经形态计算技术的创新提供了新的物理基础。 |
