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一种半导体零部件的清洗液过滤装置

基本信息

申请号 CN202021435491.X 申请日 -
公开（公告）号 CN213854162U 公开（公告）日 2021-08-03
申请公布号 CN213854162U 申请公布日 2021-08-03
分类号 B01F7/24（2006.01）I;B01F3/22（2006.01）I;B01F15/00（2006.01）I;B01D36/02（2006.01）I 分类 一般的物理或化学的方法或装置;
发明人 陈如明;陈彩丽;卜庆磊;杨子健 申请（专利权）人 英迪那米（徐州）半导体科技有限公司
代理机构 北京权智天下知识产权代理事务所（普通合伙） 代理人 徐小淇
地址 221600江苏省徐州市经济技术开发区庙山路1号2号厂房
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种半导体零部件的清洗液过滤装置，其特征在于：包括过滤箱、横板、辊轴、驱动机构及若干个过滤盒，所述横板固定安装在所述过滤箱内，且其上开设有若干个筛孔，所述辊轴转动安装在所述横板与所述过滤箱的顶板之间，所述驱动机构安装在所述过滤箱的顶部，且其与所述辊轴传动连接，所述辊轴的外圆周面上固定套接有螺旋叶片，所述过滤盒可拆卸式的密封固定在所述过滤箱的箱壁上，且其内填充有活性炭颗粒，本实用新型与现有技术相比的优点在于：实现过滤箱内清洗液的充分混合，保证了半导体零部件的清洗效率和质量，同时，大大减少了清洗液中的杂质颗粒含量，保证了半导体零部件表面的洁净，保障半导体的生产质量。