一种杂散光遮蔽结构、包含其的超微距成像模块
基本信息
| 申请号 | CN202110023946.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112711089A | 公开（公告）日 | 2021-04-27 |
| 申请公布号 | CN112711089A | 申请公布日 | 2021-04-27 |
| 分类号 | G02B6/00;G02B13/24 | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 胡庆磊;黄凯;李宁;李梦婷;丁昶杰 | 申请（专利权）人 | 肯维捷斯（武汉）科技有限公司 |
| 代理机构 | 武汉东喻专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 宋敏 |
| 地址 | 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种杂散光遮蔽结构，其特征在于：杂散光遮蔽结构包括设置在导光结构的镜头安装通孔中的超微距镜头的物方端面前方的带有丝印的前保护视窗，设置在前保护视窗的边缘侧壁与镜头安装通孔之间，呈前后延伸状的遮光圈等。本发明采用遮光圈包围带丝印的保护视窗，杜绝了大量照明光进入保护视窗后打入镜头造成的成像炫光影响，且杜绝了照明光进入保护视窗后其散射光照亮表面杂质对成像质量造成的影响，进一步地，模块背部保护视窗采用丝印和背胶对杂散光进行遮蔽，杜绝了超微距模块与设备镜头间杂散光对成像效果的影响，总体成像质量提升。 |
