一种基于超滑结构形成的接触式磁头滑块
基本信息
| 申请号 | CN201910233600.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109949832B | 公开（公告）日 | 2021-06-04 |
| 申请公布号 | CN109949832B | 申请公布日 | 2021-06-04 |
| 分类号 | G11B5/187 | 分类 | 信息存储; |
| 发明人 | 杨德智;张清卿 | 申请（专利权）人 | 北京清正泰科技术有限公司 |
| 代理机构 | 北京中政联科专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 陈超 |
| 地址 | 100084 北京市海淀区清华大学学研大厦B座705 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 以现有磁头滑块为基础，对其进行刻蚀形成多个直径约为几十微米的凹槽，无需再进行气垫面刻蚀。超滑结构基底选择具有一定刚度并且具有原子级平整的材料，尺寸比磁头滑块凹槽略小，在超滑结构基底材料底部进行刻蚀形成多个比超滑片尺寸稍大的凹槽，将超滑片通过点胶技术粘接于超滑结构基底的凹槽中，通过适当的压力使胶滴固化并使超滑片底部处于同一高度，再将带有超滑片的超滑结构基底粘接于磁头滑块凹槽中。 |
