一种钕铁硼稀土永磁器件的磁控镀膜设备及制造方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种钕铁硼稀土永磁器件的磁控镀膜设备及制造方法

基本信息

申请号	CN201410107515.1	申请日	-
公开（公告）号	CN103820766B	公开（公告）日	2016-04-06
申请公布号	CN103820766B	申请公布日	2016-04-06
分类号	C23C14/35(2006.01)I;H01F1/057(2006.01)I;H01F41/02(2006.01)I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	陈晓东;孙宝玉	申请（专利权）人	沈阳中北真空设备有限公司
代理机构	-	代理人	-
地址	110168 辽宁省沈阳市近海经济区近海大街19号
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种钕铁硼稀土永磁器件的磁控镀膜设备及制造方法，该镀膜设备包括真空镀膜室、圆柱磁控靶源、阳极层线性离子源、加热装置、转架和网状料筐；转架设计在真空镀膜室内，通过支撑轴固定在框架上，框架固定在卧式真空壳体上，转架的轴线与卧式真空壳体的轴线平行，网状料筐两端有转轴安装在转架上，转轴的轴线与转架的轴线平行，转架围绕真空壳体的轴线做太阳公转，网状料筐做行星转动即随转架一起公转加自转。真空镀膜室转架内安装有一个以上的圆柱磁控靶，所述的圆柱磁控靶分别安装在转架的内部和外部；采用本发明的磁控溅射镀膜作稀土永磁器件的表面处理工序，不仅提高了稀土永磁器件的抗腐蚀能力，同时也提高了稀土永磁器件的磁性能。