具有工艺管压力控制装置的半导体热处理设备及控制方法
基本信息
| 申请号 | CN201610921266.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106505016B | 公开（公告）日 | 2020-02-14 |
| 申请公布号 | CN106505016B | 申请公布日 | 2020-02-14 |
| 分类号 | H01L21/67;H01L21/324 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 穆晓航;钟结实;王凯;杨帅 | 申请（专利权）人 | 北方华创科技集团股份有限公司 |
| 代理机构 | 上海天辰知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 北京北方华创微电子装备有限公司;北京七星华创电子股份有限公司 |
| 地址 | 100176 北京市经济技术开发区文昌大道8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种具有工艺管压力控制装置的半导体热处理设备及控制方法，通过将压力控制器原有的一个采样点增加为两个采样点，其中一个采样点可继续采集工艺管排气端的压力，另一个采样点用于采集承载区域内的压力，并增加在工艺的不同阶段对第一、第二采样点进行切换的功能，实现不同工艺步骤对工艺管内压力的不同控制方法，从而可在满足原有的工艺压力控制需求的前提下，实现在工艺过程的升降舟阶段避免承载区域内气体进入工艺管的控制目标，减少了气流冲击对工艺产品表面膜厚均匀性的影响。 |
