一种蒸发源
基本信息
| 申请号 | CN202110321264.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113061848A | 公开（公告）日 | 2021-07-02 |
| 申请公布号 | CN113061848A | 申请公布日 | 2021-07-02 |
| 分类号 | C23C14/24 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 张久杰;季渊 | 申请（专利权）人 | 南京昀光科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 孟金喆 |
| 地址 | 211100 江苏省南京市江宁区梅林街18号(江宁开发区) | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明实施例提供一种蒸发源，该蒸发源包括坩埚、加热丝和多个半导体制冷片；所述加热丝围绕所述坩埚分布，多个所述半导体制冷片设置于所述加热丝远离所述坩埚的一侧，且多个所述半导体制冷片沿环绕所述坩埚的方向依次排列；每一所述半导体制冷片包括冷端和热端，所述冷端用于制冷，所述热端用于制热；所述半导体制冷片包括第一制冷片和第二制冷片，所述第一制冷片的冷端设置于邻近所述坩埚的一侧，所述第二制冷片的热端设置于邻近所述坩埚的一侧。本发明实施例提供的蒸发源，能够提高蒸发源的升温速率和降温速率。 |
