一种减小霍尔器件失调电压的方法
基本信息
申请号 | CN02116445.2 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN1450672A | 公开(公告)日 | 2003-10-22 |
申请公布号 | CN1450672A | 申请公布日 | 2003-10-22 |
分类号 | H01L43/14 | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 郑一阳;韩海;景士平;梁平 | 申请(专利权)人 | 北京华源科半光电子科技有限责任公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 100083北京市海淀区清华东路肖庄林业大学院内中科院半导体所 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种低失调电压的砷化镓霍尔器件的制备工艺方法,在基片上蒸镀氧化硅形成器件图形,然后再用离子注入技术在图形中形成高浓度有源区,最后蒸镀电极构成霍尔器件的芯片。本发明所述的工艺图形精确,各向同性,由此制备的霍尔器件失调电压很小。 |
