一种带覆膜撕膜装置的真空卷绕镀膜设备及其镀膜方法
基本信息
申请号 | CN202210186187.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114635119A | 公开(公告)日 | 2022-06-17 |
申请公布号 | CN114635119A | 申请公布日 | 2022-06-17 |
分类号 | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 朱刚劲;朱刚毅 | 申请(专利权)人 | 广东腾胜科技创新有限公司 |
代理机构 | 东莞高瑞专利代理事务所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 526000广东省肇庆市端州区端州一路南宾日大楼侧第一卡厂房之二 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开一种带覆膜撕膜装置的真空卷绕镀膜设备,包括真空容器、设于真空容器内的放卷系统、镀膜辊、覆膜卷、撕膜卷及收卷系统,放卷系统上缠绕基材与覆膜卷上保护膜一起贴合,经过镀膜辊后,在收卷时基材与保护膜分离开,基材收卷在收卷系统上,保护膜收卷在撕膜卷上,在镀膜辊的外侧设有磁控靶。还公开一种镀膜方法,包括:将放卷系统上的基材绕过镀膜辊外层,并收卷在收卷系统上;将覆膜卷上的保护膜贴合在基材内表面,保护膜在镀膜辊内层,基材在外层,一起缠绕通过镀膜辊上,进入收卷时缠绕在撕膜卷上;基材通过镀膜辊时,磁控靶对镀膜辊上的基材进行磁控溅射镀膜。本发明可增加基材的拉张力,避免产生褶皱、走偏和拉断,提升镀膜效果。 |
