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一种蒸发源离子轰击刻蚀装置

基本信息

申请号	CN202021511986.6	申请日	-
公开（公告）号	CN213142162U	公开（公告）日	2021-05-07
申请公布号	CN213142162U	申请公布日	2021-05-07
分类号	C23C14/02(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I	分类	-
发明人	卢国英;石昌仑;兰睿	申请（专利权）人	常州夸克涂层科技有限公司
代理机构	大连理工大学专利中心	代理人	梅洪玉
地址	213000江苏省常州市武进区常武中路18号大连理工大学江苏研究院B座218-219
法律状态	-

摘要

本实用新型涉及公开了一种蒸发源离子轰击刻蚀装置，其包括真空室，真空室后侧固定连接蒸发源，蒸发源前端面与真空室内部连通，蒸发源旁边设置有在真空室外部的弧电源，弧电源负极和蒸发源通过电线电性连接，蒸发源的前端面上固定连接Ti靶，Ti靶前侧设置挡板，挡板在真空室内，挡板转动连接在真空室右端面上，挡板前侧间隔设置有水冷阳极，水冷阳极在真空室内，弧电源正极和水冷阳极通过电线电性连接，水冷阳极前侧间隔设置工作转架，工作转架在真空室内，工作转架转动连接在真空室左端面上，真空室外部设置有偏压电源且偏压电源正极和真空室通过电线电性连接，偏压电源负极和工作转架通过电线电性连接，本发明具有快速对材料表面清洗刻蚀的效果。