一种用于真空镀膜的雾化加热装置
基本信息
| 申请号 | CN202122497570.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN216427388U | 公开（公告）日 | 2022-05-03 |
| 申请公布号 | CN216427388U | 申请公布日 | 2022-05-03 |
| 分类号 | C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;B05D1/00（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李小彭;姜翠宁;高文波 | 申请（专利权）人 | 浙江生波智能装备有限公司 |
| 代理机构 | 中山卓融知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 彭国军;赵钊 |
| 地址 | 314499浙江省嘉兴市海宁市海宁经济开发区芯中路6号4幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供一种用于真空镀膜的雾化加热装置，包括用于对液态有机镀膜材料进行雾化的雾化装置以及用于对雾化后的有机镀膜材料进行汽化的加热装置，加热装置包括与雾化装置相连通的加热箱体和设于加热箱体上且用于对加热箱体进行加热的加热组件，加热箱体的一侧设有喷口。本发明采用上述结构，实现了对液态有机镀膜材料的雾化及汽化过程，汽化后的有机镀膜材料可均匀地附着并涂覆于基材的表面上，成膜的过程在真空环境下完成，其适用范围广，可以获得较薄的镀膜层，也可以满足厚膜的需要，其均匀性容易控制，效率高，并且可以获得均匀性高和更高膜层性能的薄膜。 |
