一种电弧离子镀装置
基本信息
| 申请号 | CN201821736280.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209307475U | 公开（公告）日 | 2019-08-27 |
| 申请公布号 | CN209307475U | 申请公布日 | 2019-08-27 |
| 分类号 | C23C14/32（2006.01）I; C23C14/48（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘伟; 马槽伟 | 申请（专利权）人 | 大连维钛克科技股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 116600 辽宁省大连市经济技术开发区东北七街13号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种电弧离子镀装置，该装置由真空室、真空抽气系统、四组弧源和置于其前的转动挡板组成，其中，转动挡板包括清洗挡板及沉积栅网两种，悬挂于真空室上部的转动盘上，有效防止大颗粒污染涂层结构和降低性能，同时还能有效提高对基材加热、清洗和刻蚀以及离子注入效果，显著提高后续制备的硬质防护涂层与基材的结合力，可用于刀具、模具、机械零部件等表面制备硬质防护薄膜和涂层领域。 |
