一种ARC后部磁场调整机构
基本信息
| 申请号 | CN201820808461.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN208308948U | 公开（公告）日 | 2019-01-01 |
| 申请公布号 | CN208308948U | 申请公布日 | 2019-01-01 |
| 分类号 | C23C14/35 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘晓华 | 申请（专利权）人 | 大连维钛克科技股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 116600 辽宁省大连市经济技术开发区铁山西路3-1号-A、B | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种ARC后部磁场调整机构，靶材座上部安装靶材，靶材座下方设有冷却法兰，冷却法兰外部对称焊接有冷却法兰焊接件，冷却法兰焊接件为中空结构，冷却法兰焊接件端部连接水嘴，冷却法兰焊接件、冷却法兰上部和靶座之间的中空结构构成冷却水路；冷却法兰下部安装螺母盖，贯穿螺母盖螺纹安装手柄，位于冷却法兰内部的手柄上端安装磁铁座，磁铁座上安装磁铁。本实用新型将后部磁铁安装在可调整的手柄机构上，以有效调整磁铁与靶材的距离来实现后部磁场始终给溅射离子提供足够的能量；在靶材后面加上冷却装置对靶材冷却，同时也能保证溅射的离子更加细小，杜绝大颗粒的产生，使膜层更加细腻、增强结合力，使弧源运行性能更加稳定、可靠。 |
