一种微米级尺寸图形化蓝宝石衬底的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201610207145.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105702825A | 公开（公告）日 | 2016-06-22 |
| 申请公布号 | CN105702825A | 申请公布日 | 2016-06-22 |
| 分类号 | H01L33/20(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;B23K26/36(2014.01)I;B23K26/364(2014.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 云峰;郭茂峰;苏喜林 | 申请（专利权）人 | 陕西新光源科技有限责任公司 |
| 代理机构 | 西安通大专利代理有限责任公司 | 代理人 | 陕西新光源科技有限责任公司 |
| 地址 | 710077 陕西省西安市雁塔区锦业路125号西安半导体产业园103号厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种微米级尺寸图形化蓝宝石衬底的制备方法，包括以下步骤：1)在蓝宝石衬底上利用激光加工方式形成激光烧蚀改质区域，其余为未处理蓝宝石区域；2)在步骤1)中未处理蓝宝石区域利用激光加工方式形成具有预期轮廓的改质层；3)利用高温湿法腐蚀清洗去除激光烧蚀改质区域和具有预期轮廓的改质层，最终获得预期设计图案的图形化蓝宝石柱体。本发明利用定位精度达到1微米级别的激光加工设备，通过烧蚀或脉冲辐照形成改质区域，获得蓝宝石材料的非晶/多晶-单晶界面，利用该界面存在湿法腐蚀速率差异的原理，加工出预期设计的图形化蓝宝石衬底，该方法适合于规模化快速生产。 |
