原料气化装置和镀膜设备及其气化方法
基本信息
| 申请号 | CN202010729972.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111996501B | 公开（公告）日 | 2022-03-04 |
| 申请公布号 | CN111996501B | 申请公布日 | 2022-03-04 |
| 分类号 | C23C14/32（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 宗坚 | 申请（专利权）人 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 骆苏华 |
| 地址 | 214000 江苏省无锡市惠山经济开发区玉祁配套区东环路182号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一原料气化装置和镀膜设备及其气化方法，其中所述原料气化装置，其包括：一第一级气化部件，所述第一级气化部件用于将送入的原料进行初级气化；一第二级气化部件，所述第二级气化部件用于将第一级气化部件初级气化后的原料进一步气化；和一进料控制部，其中所述进料控制部用于送入需要被气化的原料，所述进料控制部控制地连通所述第一级气化部件，由此提高原料的气化效率。 |
