蚀刻液组合物
基本信息
| 申请号 | CN201910275642.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110042393B | 公开（公告）日 | 2020-11-24 |
| 申请公布号 | CN110042393B | 申请公布日 | 2020-11-24 |
| 分类号 | C23F1/18;C23F1/26 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 孟小欢;苗新民 | 申请（专利权）人 | 绍兴明煌科技有限公司 |
| 代理机构 | 绍兴市寅越专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 沧州硕金生物科技有限公司;绍兴明煌科技有限公司 |
| 地址 | 312030 浙江省绍兴市柯桥区安昌街道大山西村1幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种蚀刻液组合物，属于蚀刻技术领域，包括，以蚀刻液组合物的总重量计，6‑16wt％过硫酸盐；2‑6wt％硝酸；0.3‑3wt％磺酸化合物；0.3‑0.5wt％硝酸羟胺；以及，余量的水。本发明蚀刻液组合物能够消除现有蚀刻液中发生的侧面蚀刻现象、经时变化现象、蚀刻时的产生残渣现象以及蚀刻废液难以再利用和回收等缺点，蚀刻的均匀性和稳定性较佳，易于形成精细图案的线路，用于各种显示装置用阵列基板、存储半导体显示板等的制造。此外，上述蚀刻液组合物的稳定性高、铜离子的回收容易，易于对蚀刻废液进行再利用和回收。 |
