一种用于真空镀膜的雾化装置
基本信息
| 申请号 | CN202111203394.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113828466A | 公开（公告）日 | 2021-12-24 |
| 申请公布号 | CN113828466A | 申请公布日 | 2021-12-24 |
| 分类号 | B05B17/06（2006.01）I;B05B16/20（2018.01）I;C23C16/50（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I | 分类 | 一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕; |
| 发明人 | 李小彭;姜翠宁 | 申请（专利权）人 | 洛阳生波尔真空装备有限公司 |
| 代理机构 | 中山卓融知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 彭国军;赵钊 |
| 地址 | 471822河南省洛阳市新安县洛新产业集聚区广深路3号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种用于真空镀膜的雾化装置，包括壳体和设于壳体内的雾化器本体，雾化器本体的两端分别设有通液接口和雾化喷头，通液接口用于通入供雾化器本体进行雾化的液态有机镀膜材料，雾化器本体上设有用于增压的增压接头。本发明先对液态有机镀膜材料的雾化，而后可以再对雾化后液态有机镀膜材料进行汽化，汽化后的有机镀膜材料可均匀地附着并涂覆于基材的表面上，成膜的过程在真空环境下完成，其适用范围广，可以获得较薄的镀膜层，也可以满足厚膜的需要，其均匀性容易控制，效率高，并且可以获得均匀性高和更高膜层性能的薄膜。 |
