单体气化装置及其应用的镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN202020997062.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213142177U | 公开（公告）日 | 2021-05-07 |
| 申请公布号 | CN213142177U | 申请公布日 | 2021-05-07 |
| 分类号 | C23C16/52(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;G01F23/00(2006.01)I;G01K13/02(2021.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 高文波;李小彭 | 申请（专利权）人 | 洛阳生波尔真空装备有限公司 |
| 代理机构 | 中山市捷凯专利商标代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 石仁 |
| 地址 | 471000河南省洛阳市新安县洛新产业集聚区广深路3号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种单体气化装置及其应用的镀膜设备，单体气化装置包括箱体，箱体内设有用于封装液态单体气的单体容器以及用于对单体容器恒温加热的恒温加热系统，单体容器上还设有出气管，通过恒温加热系统对单体容器加热使液态单体气气化并使气化后的单体气形成一定的带压气源从出气管流出，且单体容器上还设有用于检测单体容器内液态单体气的余量的单体液位测量装置。本申请的单体液位测量装置可实时测量液态单体气液位，以便监测单体气余量，通过恒温加热系统恒温加热单体容器，可使单体容器内温度均匀升高，使得液态单体气气化，从而使单体容器内气态单体形成一定单体压强，保证其真空镀膜时的连续性和稳定性。 |
