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一种接触膜带有微凹槽的激光冲击波抛光装置

基本信息

申请号 CN201710851510.3 申请日 -
公开（公告）号 CN107671601B 公开（公告）日 2019-08-02
申请公布号 CN107671601B 申请公布日 2019-08-02
分类号 B24B1/00（2006.01）I 分类 磨削；抛光;
发明人 戴峰泽; 耿杰 申请（专利权）人 东台城东科技创业园管理有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 212013 江苏省镇江市京口区学府路301号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开一种接触膜带有微凹槽的激光冲击波抛光装置，该装置的结构包括高能脉冲激光、约束层、激光冲击波、吸收层、带微凹槽刚性接触膜。其具体过程是：高能脉冲激光透过约束层辐照在吸收层上，吸收层迅速汽化产生等离子体爆炸并诱导高压冲击波，在该冲击波的作用下，带有微凹槽的刚性接触膜将碾压微凸起，由于接触膜上开设有微凹槽，接触膜具有良好的柔性，更易于贴合在曲面上，并在抛光中保证抛光区域表面粗糙度的一致性，同时微凹槽的存在使接触膜底部在激光冲击波作用后能够恢复初始形状，不但能够在大面积抛光时保证工件表面抛光后的面型精度，并使接触膜可重复使用。本发明可应用于金属表面大面积自由曲面的抛光处理。