一种真空灭弧室触头、真空灭弧室及真空断路器

基本信息

申请号 CN202020130250.8 申请日 -
公开(公告)号 CN211319999U 公开(公告)日 2020-08-21
申请公布号 CN211319999U 申请公布日 2020-08-21
分类号 H01H33/02(2006.01)I 分类 -
发明人 刘卫荣;常新 申请(专利权)人 北京京东方真空电器有限责任公司
代理机构 北京维正专利代理有限公司 代理人 侯巍巍
地址 101500北京市密云区经济开发区汇通街15号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及一种真空灭弧室触头、真空灭弧室及真空断路器,属于真空开关技术领域。包括触头片、第一触头杯和第二触头杯,第一触头杯设置于第二触头杯内,第一触头杯至少有一个,第一触头杯的一端与第二触头杯连接,第一触头杯的另一端与触头片连接,触头片与第二触头杯连接。本技术方案将单一的纵向磁场分裂成多个独立的纵向磁场区域,多个线圈对电流分流,电流密度降低,真空灭弧室在通载大额定电流时温度升高较少,触头的发热将明显降低,解决了大短路电流开断和大额定电流温升的矛盾。且触头加工工艺简单,容易实现,降低生产成本。