一种新型褪膜方法
基本信息
| 申请号 | CN201811094425.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109152222A | 公开（公告）日 | 2019-01-04 |
| 申请公布号 | CN109152222A | 申请公布日 | 2019-01-04 |
| 分类号 | H05K3/00;G03F7/42 | 分类 | 其他类目不包含的电技术; |
| 发明人 | 单春光;邹冠生 | 申请（专利权）人 | 中山市瑞宝电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 厦门市新华专利商标代理有限公司 | 代理人 | 叶玉凤;徐勋夫 |
| 地址 | 528400 广东省中山市南朗镇大车工业区东桠工业园B幢3楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种新型褪膜方法，包括以下步骤：第1步，将表面覆盖有干膜的陶瓷基板浸泡到浓度为3‑5%的强碱性溶液中，浸泡温度控制在55±5℃的范围内，软化干膜；第2步，将陶瓷基板从强碱性溶液中取出用清水洗净；第3步，将褪膜未净的陶瓷基板浸泡到浓度为90%以上的H2SO4溶液中，浸泡温度为常温，使干膜脱落退除；第4步，将陶瓷基板从H2SO4溶液中取出再次用清水洗净。这4个步骤，低浓度的强碱性溶液主要作用是软化干膜，后续再用浓硫酸褪膜，褪膜率能达到100%，并且步骤简单，成本低。 |
