光隔离器及其制备方法、光模块专利查询专利号|摘要-满商公司网

光隔离器及其制备方法、光模块

基本信息

申请号	CN202110654060.5	申请日	-
公开（公告）号	CN113433619A	公开（公告）日	2021-09-24
申请公布号	CN113433619A	申请公布日	2021-09-24
分类号	G02B6/27（2006.01）I;G02B6/42（2006.01）I	分类	光学;
发明人	孙逊;李林科;吴天书;杨现文;张健	申请（专利权）人	武汉联特科技股份有限公司
代理机构	北京汇泽知识产权代理有限公司	代理人	胡建文
地址	430000湖北省武汉市东湖新技术开发区流芳大道52号E地块12栋
法律状态	-

摘要

本发明涉及一种光隔离器，包括磁环和PGP芯片，所述磁环具有入光面和出光面，所述PGP芯片收容于所述磁环的环腔内并且远离所述出光面设置，所述PGP芯片与所述磁环的内环壁固定连接并使所述PGP芯片所限定的出光光轴与所述磁环的轴线同轴。另外还提供采用该光隔离器的光模块以及该光隔离器的制备方法。相较于常规的光隔离器，本发明提供的光隔离器，将PGP芯片远离磁环的出光面设置，即相应地增大了PGP芯片与插芯之间的距离，可达到优化隔离器本身的Transmitter Reflectance的效果，进而能够优化光器件的Transmitter Reflectance，这样可减小光器件发射端对外部的干扰，提高光器件在实际应用过程中的传输性能。