干膜抗蚀剂及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202111415164.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114114837A | 公开（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申请公布号 | CN114114837A | 申请公布日 | 2022-03-01 |
| 分类号 | G03F7/027（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 朱薛妍;严晓慧;李伟杰;张浙南 | 申请（专利权）人 | 杭州福斯特电子材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 梁文惠 |
| 地址 | 311300浙江省杭州市临安区锦北街道福斯特街8号1幢212 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种干膜抗蚀剂及其制备方法。干膜抗蚀剂包括支撑层和抗蚀剂层，形成抗蚀剂层的原料包括碱溶性树脂、可光聚合单体和光引发剂，其特征在于，抗蚀剂层为预交联层，抗蚀剂层的交联度为2％～15％。将抗蚀剂层设置为预交联层，即在收卷之前其为经过部分交联的结构，经过预交联后抗蚀剂层的流动性得到了有效控制，且通过对抗蚀剂层交联度的控制又保证了其具有足够的追随性。同时，上述交联度为2％～15％的抗蚀剂层，其具有足够的解析度和显影性，不影响其后续图形化使用要求。 |
