一种持续稳定的单晶硅片清洗装置
基本信息
| 申请号 | CN201621335851.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN206301763U | 公开（公告）日 | 2017-07-04 |
| 申请公布号 | CN206301763U | 申请公布日 | 2017-07-04 |
| 分类号 | H01L21/67 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 俞豪威;梁庭卫 | 申请（专利权）人 | 安徽爱森能源有限公司 |
| 代理机构 | 六安众信知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 熊伟 |
| 地址 | 237200 安徽省六安市霍山经济开发区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种持续稳定的单晶硅片清洗装置，包括第一水槽、第二水槽、第三水槽、第四水槽、第五水槽、第六水槽、第七水槽、第八水槽，在每个水槽内设有加热器，每个加热器与加热器温控板单独连接，所述第三水槽和第四水槽内部均设有水冷块，在第三水槽和第四水槽外侧均设有散热片、水箱、液体输送泵，且所述水冷块和散热片、水箱、液体输送泵依次通过液体输送管顺序相通连接。本实用新型作为一种单晶硅片清洗装置，具有稳定、持续清洗的优点。 |
