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半导体工艺设备及其质量流量控制器、流体流量控制方法

基本信息

申请号 CN202111319334.1 申请日 -
公开（公告）号 CN113900455A 公开（公告）日 2022-01-07
申请公布号 CN113900455A 申请公布日 2022-01-07
分类号 G05D7/06（2006.01）I 分类 控制；调节;
发明人 车艳霞;邹义涛 申请（专利权）人 北京七星华创流量计有限公司
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人 彭瑞欣;王婷
地址 100176北京市北京经济技术开发区文昌大道8号1幢506室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种流体流量控制方法，包括：确定目标流量所在的流量区间；在流量差值小于预设流量差值时，根据流量差值确定目标流量对应的控制参数，并基于确定的控制参数控制流体流量；其中，确定的控制参数随着流量差值增大，由前一个流量区间对应的预设控制参数至目标流量所在的流量区间对应的预设控制参数连续单调变化。在本发明中，质量流量控制器能够在目标流量靠近流量区间的边界值时，根据流量差值确定目标流量对应的控制参数，且确定的控制参数随着流量差值增大而在前后两预设控制参数之间连续单调变化，从而避免控制参数发生突变，消除流量超调风险，有助于更加精确地控制气体流量。本发明还提供一种质量流量控制器和半导体工艺设备。