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半导体工艺设备及其集成供气系统

基本信息

申请号 CN202121493353.1 申请日 -
公开（公告）号 CN215451345U 公开（公告）日 2022-01-07
申请公布号 CN215451345U 申请公布日 2022-01-07
分类号 H01L21/67（2006.01）I 分类 基本电气元件;
发明人 马培原;宋志辉;杨宗林 申请（专利权）人 北京七星华创流量计有限公司
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人 彭瑞欣;王婷
地址 100176北京市北京经济技术开发区文昌大道8号1幢506室
法律状态 -

摘要

摘要 本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其集成供气系统。该集成供气系统包括：底板、气路输送组件、枢转组件及锁紧组件；底板竖直设置于半导体工艺设备的柜体内；气路输送组件的顶端通过枢转组件与底板枢转连接，气路输送组件能相对于枢转组件旋转，以使气路输送组件在第一位置及第二位置之间切换；锁紧组件设置于气路输送组件朝向底板的一侧，用于当气路输送组件位于第一位置时，将气路输送组件的底端与底板锁紧，并且还用于将气路输送组件的底端与底板释放，以使气路输送组件能切换至第二位置。本申请实施例为调试及维护提供了空间，从而可以大幅提高调试及维护效率。另外气路输送组件位于第二位置还有利于对气路输送组件上的仪表读取示数。