一种吡非尼酮光降解杂质及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202011448041.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112645862A | 公开（公告）日 | 2021-04-13 |
| 申请公布号 | CN112645862A | 申请公布日 | 2021-04-13 |
| 分类号 | C07D205/12;G01N1/28 | 分类 | 有机化学〔2〕; |
| 发明人 | 施路;许加龙;胡丰锦 | 申请（专利权）人 | 南京华威医药科技集团有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 210046 江苏省南京市栖霞区纬地路9号C3栋 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种吡非尼酮光降解杂质6‑甲基‑2苯基‑2‑氮杂双环[2.2.0]己‑5‑烯‑3‑酮及其制备方法。步骤简单，反应条件温和，产物收率高且纯度较高。本发明为吡非尼酮原料药及相关制剂的降解杂质检测提供了新的对照品，更有利于工艺研究和质量控制，进而控制吡非尼酮的产品质量，具有重大的意义和实用价值。 |
